Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/4810
Назва: Покращення досконалості кристалічної ґратки InP шляхом імплантації іонів Не+ та наступного відпалу
Інші назви: Improvement of InP crystalline perfection by He+- implantation and subsequent annealing
Автори: Терлецький, Андрій Іванович
Tighinyanu, Ion
Ursaki, Viaceslav
Ключові слова: фосфід індію
досконалість кристалічної ґратки
Raman spectra
Дата публікації: 1995
Видавництво: Solid State Communication
Бібліографічний опис: Tiginyanu I. M. Improvement of InP crystalline perfection by He+- implantation and subsequent annealing // I. M. Tiginyanu, A. I. Terletsky, V. V. Ursaki // Solid State Commun. – 1995. – Vol. 96, No.10. – pp. 789-792.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/4810
Розташовується у зібраннях:Статті та тези (ФТФ)

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
tiginyanu.improvement_of_inp_crystalline.pdf353.18 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.