Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/1843
Назва: Research into constructive and technological features of epitaxial gallium-arsenide structures formation on silicon substrates
Інші назви: Дослідження конструктивних і технологічних особливостей формування епітаксійних арсенід-галієвих структур на кремнієвих підкладках
Автори: Новосядлий, Степан Петрович
Дзундза, Богдан Степанович
Грига, Володимир Михайлович
Новосядлий, Святослав Володимирович
Котик, Михайло Васильович
Мандзюк, Володимир Ігорович
Ключові слова: комплементарні структури
напівпровідники
епітаксія
інтегральні схеми
технологічні особливості
Дата публікації: 2017
Видавництво: НПП ЧП «Технологічний Центр»
Бібліографічний опис: S. Novosyadlyj, B. Dzundza, V. Gryga, S. Novosyadlyj, M. Kotyk, V. Mandzyuk. Research into constructive and technological features of epitaxial gallium-arsenide structures formation on silicon substrates // Eastern-European Journal of Enterprise Technologies. 2017. V. 3, N. 5(87). P. 54-61.
Серія/номер: V. 3, N. 5(87);
Короткий огляд (реферат): Проведено аналіз складних структур різної архітектури ІС/ВІС на епі-шарах GaAs, сформованих на Si-підкладках. Вияснено вплив процесів розсіюваних носіїв заряду на флуктуаціях потенціалу на величину і профіль рухливості електронів по товщині епітаксіальної структури. Експериментально показано, що підвищення крутизни в транзисторах Шотткі на основі структур із заглибленими шарами можливе при зниженні опору паразитних областей затвор-стік, затвор витік.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/1843
ISSN: 1729-3774
Розташовується у зібраннях:Статті та тези (ФТФ)

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
104563-224066-1-PB.pdf956.59 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.