Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/123456789/13166
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorОстафійчук, Богдан Костянтинович-
dc.contributor.authorГарпуль, Оксана Зіновіївна-
dc.contributor.authorКуровець, Валентина Василівна-
dc.date.accessioned2022-11-07T09:14:30Z-
dc.date.available2022-11-07T09:14:30Z-
dc.date.issued2012-
dc.identifier.citationОстафійчук Б. К., Гарпуль О. З., Куровець В. В. Особливості процесу радіаційного дефектоутворення у приповерхневому шарі імплантованих іонами Si+ плівок залізо-ітрієвого Ґранату // Вісник Прикарпатського університету. Серія: Фізика. Функціональні матеріали. – 2012. – Вип. 2. – C. 3-9.uk_UA
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/13166-
dc.description.abstractПроведено математичне моделювання процесу імплантації іонів Si+ у плівку ЗІҐ. Показано, що утворення пар Френкеля та дефектів більш складного типу є рівноймовірним. Теоретично розраховано профіль концентрації радіаційних дефектів, який в основному формується дефектами, утвореними внаслідок пружних взаємодій іона-імплантага з атомами мішені. Експериментально встановлено, що імплантація іонів Si+ у плівки ЗІҐ призводить до утворення в приповерхневому шарі монотонно-спадних профілів відносної деформації.uk_UA
dc.language.isouk_UAuk_UA
dc.publisherПрикарпатський національний університет імені Василя Стефаникаuk_UA
dc.subjectферит-ґранатові плівкиuk_UA
dc.subjectіонна імплантаціяuk_UA
dc.subjectкрива дифракційного відбиванняuk_UA
dc.subjectпрофіль підносної деформаціїuk_UA
dc.titleОсобливості процесу радіаційного дефектоутворення у приповерхневому шарі імплантованих іонами Si+ плівок залізо-ітрієвого Ґранатуuk_UA
dc.typeArticleuk_UA
Appears in Collections:№ 2

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Остафійчук Б.К., Гарпунь О.З., Куровець В.В. С.3-9.pdf291.02 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.