1. Precarpathian National University Repository
  2. Періодичні видання ПНУ
  3. Вісники
  4. Серія: Фізика. Функціональні матеріали
  5. 2012
  6. № 2
Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/13166
Назва: Особливості процесу радіаційного дефектоутворення у приповерхневому шарі імплантованих іонами Si+ плівок залізо-ітрієвого Ґранату
Автори: Остафійчук, Богдан Костянтинович
Гарпуль, Оксана Зіновіївна
Куровець, Валентина Василівна
Ключові слова: ферит-ґранатові плівки
іонна імплантація
крива дифракційного відбивання
профіль підносної деформації
Дата публікації: 2012
Видавництво: Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника
Бібліографічний опис: Остафійчук Б. К., Гарпуль О. З., Куровець В. В. Особливості процесу радіаційного дефектоутворення у приповерхневому шарі імплантованих іонами Si+ плівок залізо-ітрієвого Ґранату // Вісник Прикарпатського університету. Серія: Фізика. Функціональні матеріали. – 2012. – Вип. 2. – C. 3-9.
Короткий огляд (реферат): Проведено математичне моделювання процесу імплантації іонів Si+ у плівку ЗІҐ. Показано, що утворення пар Френкеля та дефектів більш складного типу є рівноймовірним. Теоретично розраховано профіль концентрації радіаційних дефектів, який в основному формується дефектами, утвореними внаслідок пружних взаємодій іона-імплантага з атомами мішені. Експериментально встановлено, що імплантація іонів Si+ у плівки ЗІҐ призводить до утворення в приповерхневому шарі монотонно-спадних профілів відносної деформації.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/13166
Розташовується у зібраннях:№ 2

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
Остафійчук Б.К., Гарпунь О.З., Куровець В.В. С.3-9.pdf291.02 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити
Показати повний опис матеріалу Перегляд статистики


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.