Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/123456789/11173
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorЯцунський, Ігор Ростиславович-
dc.contributor.authorСминтина, Валентин Андрійович-
dc.contributor.authorПавленко, Микола Миколайович-
dc.contributor.authorСвірідова, Ольга Валентинівна-
dc.contributor.authorРімашевський, Олександр Аркадійович-
dc.date.accessioned2021-11-11T12:58:08Z-
dc.date.available2021-11-11T12:58:08Z-
dc.date.issued2013-
dc.identifier.citationЯцунський І. Р. Морфологічні особливості нанокремнію, отриманого методом хімічного неелектролітичного травлення / І. Р. Яцунський, В. А. Сминтина, М. М. Павленко, О. В. Свірідова, О. А. Рімашевський // Фізика і хімія твердого тіла. - 2013. - Т. 14. - № 4. - С. 794-799.uk_UA
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/123456789/11173-
dc.description.abstractУ роботі досліджено механізми формування нанокремнію новим методом неелектролітичного травлення поверхні в розчинах HF:H2O2:H2O, при різних концентраціях компонент. Показано залежність властивостей і топології поверхні отриманих наноструктур від кількісного співвідношення травника та окислювача в розчині.uk_UA
dc.language.isouk_UAuk_UA
dc.publisherДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"uk_UA
dc.subjectнеелектролітичне травленняuk_UA
dc.subjectнанокремнійuk_UA
dc.titleМорфологічні особливості нанокремнію, отриманого методом хімічного неелектролітичного травленняuk_UA
dc.title.alternativeMorphological Features of Nanosilicon Fabricated by Metal – Assisted Chemical Etchinguk_UA
dc.typeArticleuk_UA
Appears in Collections:Т. 14, № 4

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
!1404-18.pdf421.84 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.