Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/11159
Назва: Структура, морфологія та електрохімічні властивості хімічно відмитих пористих вуглецевих матеріалів
Інші назви: The Structure, Morphology and Electrochemical Properties of Chemically Washed Porous Carbon Materials
Автори: Нагірна, Надія Іванівна
Мандзюк, Володимир Ігорович
Лісовський, Роман Петрович
Кулик, Юрій Орестович
Ключові слова: хімічна обробка
низькотемпературна порометрія
пористий вуглецевий матеріал
електрохімічне впровадження йонів літію
Дата публікації: 2013
Видавництво: ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"
Бібліографічний опис: Нагірна Н. І. Структура, морфологія та електрохімічні властивості хімічно відмитих пористих вуглецевих матеріалів / Н. І. Нагірна, В. І. Мандзюк, Р. П. Лісовський, Ю. О. Кулик // Фізика і хімія твердого тіла. - 2013. - Т. 14. - № 4. - С. 749-755.
Короткий огляд (реферат): У роботі з використанням методів малокутового рентгенівського розсіяння, низькотемпературної порометрії, гальваностатичного розряду, циклічної вольтамперометрії та гальваностатичного переривчастого титрування досліджено влив хімічної обробки нанопористого вуглецевого матеріалу на його структуру, морфологію та електрохімічні параметри. Встановлено, що хімічна обробка у соляній, плавиковій та азотній кислотах призводять до значного зменшення питомої поверхні ПВМ і об’єму пор та збільшення їх розмірів порівняно з вихідним матеріалом. Показано, що вказані зміни зумовлюють також зменшення питомих енергетичних параметрів літієвих джерел струму на основі ПВМ, електрохімічне впровадження іонів літію в які носить необоротний характер. Розраховано коефіцієнт електростимульованої дифузії іонів літію в ПВМ.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/11159
Розташовується у зібраннях:Т. 14, № 4

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
!1404-10.pdf426.73 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.