Please use this identifier to cite or link to this item:
http://hdl.handle.net/123456789/1109
Title: | Вплив зміни концентрації C4H6O6 в складі композицій (NH4)2Cr2O7-HBr-C4H6O6 на параметри хіміко-динамічного полірування напівпровідників типу AIIIB V |
Other Titles: | Influence of the C4H6O6 Concentration in the (NH4)2Cr2O7-HBr-C4H6O6 Composition on the Chemical-Dynamic Polishing of the III-V Semiconductors |
Authors: | Левченко, Ірина Валеріївна Стратійчук, Ірина Борисівна Томашик, Василь Миколайович Маланич, Галина Петрівна |
Keywords: | травильні композиції напівпровідники тартратна кислота ефект хелатування |
Issue Date: | 2016 |
Publisher: | ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника" |
Citation: | Левченко І. В. Вплив зміни концентрації C4H6O6 в складі композицій (NH4)2Cr2O7-HBr-C4H6O6 на параметри хіміко-динамічного полірування напівпровідників типу AIIIB V / О. В. Левченко, І. Б. Страгійчук, В. М. Томашик, Г. П. Томашик // Фізика і хімія твердого тіла. - 2016. - Т. 17. - № 4. - С. 604-610. |
Abstract: | В роботі наведено результати експериментального визначення впливу вихідної концентрації тартратної кислоти на особливості хімічної взаємодії напівпровідників InAs, InSb, GaAs та GaSb з травильними розчинами (NH4)2Cr2O7-HBr-C4H6O6. Встановлено, що введення C4H6O6 знижує загальну швидкість розчинення кристалів, підвищуючи в’язкість травильних композицій, а також покращує поліруючі властивості травильних розчинів. Порівняльний аналіз впливу зміни складу травильних композицій (NH4)2Cr2O7-HBr-C4H6O6 з різною вихідною концентрацією C4H6O6 на параметри хіміко- динамічного полірування свідчить про те, що застосування 40 %-ної C4H6O6, в порівнянні з 27%-ною, забезпечує якісніше полірування поверхні кристалів. |
URI: | http://hdl.handle.net/123456789/1109 |
Appears in Collections: | Т. 17, № 4 |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
1250-6006-1-PB.pdf | 3.69 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.