Процеси формування парофазних конденсатів CdTe

Abstract

На основі аналізу результатів АСМ-досліджень отримано гістограми розподілу наночастинок за висотою, визначено максимальні Dm і середні Dc їх латеральні розміри, а також відношення Dm/Dc і шорсткість Ra тонкоплівкових структур CdTe, осаджених на поліроване скло і ситал у методі «гарячої стінки» при різних температурах підкладок ТП = (150 -250) ºС, випарника ТВ = (400-500) ºС, стінок камери ТС = (ТВ+50) ºС та часу осадження tн = (0,3-5) хв. У рамках оствальдівського дозрівання встановлено механізм росту парофазних структур.