Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/10738
Назва: Моделі напівізолюючих шарів арсеніду галію при їх формуванні багатозарядною іонною імплантацією
Інші назви: Models Semiinsulating Layers of Gallium Arsenide in Their Formation of Multiply Charged Ion Implantation
Автори: Новосядлий, Степан Петрович
Марчук, С. М.
Варварук, В. М.
Мельник, Л. В.
Ключові слова: арсенід-галієва технологія
багатозарядна імплантація
фонові домішки
Дата публікації: 2014
Видавництво: ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"
Бібліографічний опис: Новосядлий С. П. Моделі напівізолюючих шарів арсеніду галію при їх формуванні багатозарядною іонною імплантацією / С. П. Новосядлий, С. М. Марчук, В. М. Варварук, Л. В. Мельник // Фізика і хімія твердого тіла. - 2014. - Т. 15. - № 4. - С. 872-878.
Короткий огляд (реферат): Розроблена технологія багатозарядної імплантації домішок, які дозволяють формувати латеральні та вертикальні ізолюючі шари. Проведені експериментальні дослідження по створенню високоомних та термостабільних ізолюючих шарів в іонно-легованих n+ -n- -i-структурах на напівізолюючому GaAs.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/10738
Розташовується у зібраннях:Т. 15, № 4

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
!1504-31.pdf313.27 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.