DSpace JSPUI
DSpace зберігає і дозволяє легкий і відкритий доступ до всіх видів цифрового контенту, включаючи текст, зображення, анімовані зображення, MPEG і набори даних
Дізнатися більше
Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://hdl.handle.net/123456789/10736Повний запис метаданих
| Поле DC | Значення | Мова |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Гаврилюк, Олександр Олександрович | - |
| dc.contributor.author | Семчук, Олександр Юрійович | - |
| dc.date.accessioned | 2021-08-20T09:17:09Z | - |
| dc.date.available | 2021-08-20T09:17:09Z | - |
| dc.date.issued | 2014 | - |
| dc.identifier.citation | Гаврилюк О. О. Розповсюдження температурних профілів в нестехіометричних плівках SiOx при лазерному відпалі двома пучками / О. О. Гаврилюк, О. Ю. Семчук // Фізика і хімія твердого тіла. - 2014. - Т. 15. - № 4. - С. 862-867. | uk_UA |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/123456789/10736 | - |
| dc.description.abstract | Проведено теоретичне дослідження розповсюдження температурних профілів в нестехіометричних плівках SiOx при відпалі двома лазерними променями однакової інтенсивності. Розраховано розподіл температури на поверхні плівок SiOx, опромінених лазерними променями на різних відстанях один від одного. Показано, що при лазерному відпалі з інтенсивністю 52 МВт/м 2 температура на поверхні плівок SiOx може досягати 1800 К. Температура на поверхні зразка в міжлазерному проміжку недостатня, щоб стимулювати фазовий перехід плівки SiOx в нанокомпозитну плівку SiO2(Si) з кремнієвими нанокристалами. Наночастинки кремнію утворюються точно по позиціях пікової інтенсивності лазерного випромінювання. | uk_UA |
| dc.language.iso | uk_UA | uk_UA |
| dc.publisher | ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника" | uk_UA |
| dc.subject | нестехіометричні плівки | uk_UA |
| dc.subject | теплопровідність | uk_UA |
| dc.subject | нанокристали | uk_UA |
| dc.subject | лазерний відпал | uk_UA |
| dc.title | Розповсюдження температурних профілів в нестехіометричних плівках SiOx при лазерному відпалі двома пучками | uk_UA |
| dc.title.alternative | Distribution of Temperature Profiles in Nonstoichiometric SiOx Films by Laser Annealing of the Two Beams | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |
| Розташовується у зібраннях: | Т. 15, № 4 | |
Файли цього матеріалу:
| Файл | Опис | Розмір | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| !1504-29.pdf | 1.03 MB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.