Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/10430
Назва: Вплив легування і двотемпературного відпалу на дефектну підсистему CdTe:Br
Інші назви: Influence of Doping and Two-temperature Annealing on CdTe:Br Defective Subsystem
Автори: Писклинець, Уляна Михайлівна
Фочук, Петро Михайлович
Горічок, Ігор Володимирович
Прокопів, Володимир Васильович
Соколов, Олександр Леонідович
Ключові слова: кадмій телурид
точкові дефекти
легування
квазіхімічні реакції дефектоутворення
Дата публікації: 2014
Видавництво: ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"
Бібліографічний опис: Писклинець У. М. Вплив легування і двотемпературного відпалу на дефектну підсистему CdTe:Br / У. М. Писклинець, П. М. Фочук, І. В. Горічок, В. В. Прокопів, О. Л. Соколов // Фізика і хімія твердого тіла. - 2014. - Т. 15. - № 3. - С. 569-574.
Короткий огляд (реферат): Досліджено і проаналізовано вплив домішки та умов відпалу на електричні властивості легованих бромом монокристалів кадмій телуриду, вирощених методом Бріджмена та відпалених в атмосфері кадмію при температурах Т = 800-1100 К та тисках пари металу PCd = 103 -105 Па. Запропоновано квазіхімічні реакції утворення точкових дефектів у легованому матеріалі та розраховано залежності концентрації вільних носіїв заряду і переважаючих точкових дефектів від технологічних параметрів двотемпературного відпалу. Встановлено тип домінуючих точкових дефектів, що визначають електричні властивості матеріалу. Визначено константу рівноваги утворення комплексів домішкових дефектів заміщення з власними точковими дефектами 2 Cd Te (V Br ) - + - .
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/10430
Розташовується у зібраннях:Т. 15, № 3

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
!1503-19.pdf210.64 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.