Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/123456789/10147
Title: Вплив фінішної хімічної обробки поверхні кремнієвих пластин на десорбцію іонів Ag+ , Fe3+ , Ca2+
Other Titles: Effect of Finishing Chemical Treatment of Si-Wafers Surface on the Desorption of Ag+ , Fe3+ , Ca2+ Ions
Authors: Воробець, Марія Михайлівна
Keywords: напівпровідник
Si-пластини
адсорбція
десорбція
Issue Date: 2014
Publisher: ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"
Citation: Воробець М. М. Вплив фінішної хімічної обробки поверхні кремнієвих пластин на десорбцію іонів Ag+ , Fe3+ , Ca2+ / М. М. Воробець // Фізика і хімія твердого тіла. - 2014. - Т. 15. - № 1. - С. 169-172.
Abstract: Досліджено ефективність різних варіантів фінішної хімічної обробки (ФХО), яку застосовують для зменшення неконтрольованого технологічного забруднення поверхні Si-пластин. Показниками якісного і кількісного оцінювання ефективності ФХО обрано величини зміни контактної різниці потенціалів (КРП), роботи виходу електронів (РВЕ) та поверхневого опору. Експериментально встановлено, що адсорбція іонів Fe3+ і Ca2+ призводить до зменшення, а іонів Ag+ – до збільшення величини КРП. Показано, що у випадку обробки Si-пластин в амоніачно-пероксидних розчинах (АПР) ступінь десорбції іонів Феруму не перевищує 40 %, тоді як іони Ag+ десорбуються повністю. Введення в АПР калій гідроксиду, обробка в кислотно-пероксидних розчинах (КПР) або комбінована обробка в АПР+КПР збільшують ступінь десорбції іонів Fe3+ до 100 %. Десорбція іонів Са2+ відбувається з меншою ефективністю, ніж іонів Fe3+ та Ag+.
URI: http://hdl.handle.net/123456789/10147
Appears in Collections:Т. 15, № 1

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
!1501-24.pdf121.73 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.