Please use this identifier to cite or link to this item:
http://hdl.handle.net/123456789/10147
Title: | Вплив фінішної хімічної обробки поверхні кремнієвих пластин на десорбцію іонів Ag+ , Fe3+ , Ca2+ |
Other Titles: | Effect of Finishing Chemical Treatment of Si-Wafers Surface on the Desorption of Ag+ , Fe3+ , Ca2+ Ions |
Authors: | Воробець, Марія Михайлівна |
Keywords: | напівпровідник Si-пластини адсорбція десорбція |
Issue Date: | 2014 |
Publisher: | ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника" |
Citation: | Воробець М. М. Вплив фінішної хімічної обробки поверхні кремнієвих пластин на десорбцію іонів Ag+ , Fe3+ , Ca2+ / М. М. Воробець // Фізика і хімія твердого тіла. - 2014. - Т. 15. - № 1. - С. 169-172. |
Abstract: | Досліджено ефективність різних варіантів фінішної хімічної обробки (ФХО), яку застосовують для зменшення неконтрольованого технологічного забруднення поверхні Si-пластин. Показниками якісного і кількісного оцінювання ефективності ФХО обрано величини зміни контактної різниці потенціалів (КРП), роботи виходу електронів (РВЕ) та поверхневого опору. Експериментально встановлено, що адсорбція іонів Fe3+ і Ca2+ призводить до зменшення, а іонів Ag+ – до збільшення величини КРП. Показано, що у випадку обробки Si-пластин в амоніачно-пероксидних розчинах (АПР) ступінь десорбції іонів Феруму не перевищує 40 %, тоді як іони Ag+ десорбуються повністю. Введення в АПР калій гідроксиду, обробка в кислотно-пероксидних розчинах (КПР) або комбінована обробка в АПР+КПР збільшують ступінь десорбції іонів Fe3+ до 100 %. Десорбція іонів Са2+ відбувається з меншою ефективністю, ніж іонів Fe3+ та Ag+. |
URI: | http://hdl.handle.net/123456789/10147 |
Appears in Collections: | Т. 15, № 1 |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
!1501-24.pdf | 121.73 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.